高速鍍銀的工作電流密度高達(dá)50～200A/dm2，在如此高的電流密度下，要保證電極表面電化學(xué)反應(yīng)的正常進(jìn)行，要求鍍液成分及工藝參數(shù)與普通電鍍條件下有很大不同。

各成分的作用及控制要求如下。

a.Ag+通過(guò)KAg(CN)2加入，是電鍍液的主鹽成分，提供電沉積所需的金屬離子。銀濃度必須維持在操作電流密度所需濃度范圍的90%以內(nèi)，實(shí)際生產(chǎn)中一般控制在60～80g/L為宜。

b.游離KCNKCN是銀的主要絡(luò)合劑。由于在高電流密度下工作，對(duì)Ag+不得有過(guò)強(qiáng)的絡(luò)合作用，因此，高速鍍銀液中游離的含量要求較低。當(dāng)KCN含量升高時(shí)，銀電沉積過(guò)程的極化作用增強(qiáng)，鍍層結(jié)晶細(xì)致，但工作電流密度范圍會(huì)往低電流密度區(qū)偏移。同時(shí)，會(huì)使銀置換反應(yīng)發(fā)生的傾向增強(qiáng)。當(dāng)KCN含量降低時(shí)，可以在更高的電流密度下工作，但此時(shí)鍍液的穩(wěn)定性會(huì)降低，容易產(chǎn)生鍍層粗糙，光亮度降低等現(xiàn)象。因此，實(shí)際生產(chǎn)中要根據(jù)實(shí)際使用的電流密度情況，選擇合適的游離**化鉀控制濃度。

c.開(kāi)缸劑含電鍍液的導(dǎo)電劑及緩沖鹽，改善鍍液的導(dǎo)電能力及穩(wěn)定性。導(dǎo)電劑及緩沖鹽在電鍍過(guò)程中不消耗，只有帶出損耗，因此一般不需添加，只有在鍍液的密度太低時(shí)才會(huì)添加。

d.補(bǔ)充劑Ⅱ含有維持鍍液中銀金屬穩(wěn)定的必需物質(zhì)，每添加1kgKAg(CN)2需同時(shí)添加補(bǔ)充劑Ⅱ30～40mL。

e整理劑是一種表面活性劑，用于提高鍍層的均勻性。為了保證鍍層均勻，可根據(jù)表面張力測(cè)試來(lái)補(bǔ)充整理劑，及時(shí)將表面張力控制在(30～33)×10-3N/m內(nèi)。

f.光亮劑其作用是使鍍層結(jié)晶細(xì)化，并提高操作電流密度范圍。通過(guò)調(diào)整光亮劑及特別添加劑的含量，可得到半光亮至全光亮的銀鍍層。

g.特別添加劑其作用主要是抑制銅基體上銀置換反應(yīng)的發(fā)生，同時(shí)使銀鍍層更加均勻一致，并對(duì)鍍層光亮度有一定的作用。但特別添加劑含量不宜過(guò)高，否則易產(chǎn)生鍍層顆粒、針孔及粗糙、發(fā)黃等現(xiàn)象。

h.pH值pH值測(cè)試應(yīng)在生產(chǎn)溫度下進(jìn)行，每班測(cè)試，并維持在9.0～9.5之間，其目的是為了保證Ag(CN)2-離子在鍍液中的穩(wěn)定性。當(dāng)pH值太低時(shí)，容易產(chǎn)生鍍層粗糙、針孔等問(wèn)題;pH值過(guò)高則易使鍍層燒焦。pH值大于9.5時(shí)補(bǔ)加溶液調(diào)整，pH值小于9.0時(shí)補(bǔ)加KOH溶液調(diào)整。

i.溫度溫度越高，允許使用的電流密度范圍越大，鍍層也更均勻，但溫度過(guò)高時(shí)，鍍液揮發(fā)量大，且合化物的分解也加劇，因此，高速鍍銀的工藝溫度一般控制在65℃左右為宜。

j.過(guò)濾電鍍液應(yīng)不斷用0.5～1.0μm孔徑的過(guò)濾芯過(guò)濾，過(guò)濾器材需能提供少4次/h完全過(guò)濾。另外，還要定期使用活性炭濾芯過(guò)濾鍍液，以除去一些合化聚合物及其他雜質(zhì)，保持鍍液的佳透明狀態(tài)。